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ITO激光刻蝕技術講解

發布時間：2018-07-02 來源：元祿光電

ITO薄膜是指銦錫氧化物的半導體透明導電薄膜，通常在將ITO薄膜鍍在有機薄膜PET、玻璃和硬性塑料基板上，厚度只有幾千埃（300-500nm）。在這些材料商鍍銦錫氧化物的電阻率極低、可見光高透過率以及紫外光高發射率的優質特性，被廣泛應用到消費電子領域的觸摸屏行業中。

鍍有ITO薄膜的基材刻線后由上下層線路組合，各自布線X軸與Y軸，兩層線路中間由極小的絕緣點作為隔層，經組裝貼合后，對上方導電膜施以壓力，造成上下X軸與Y軸短路，因而改變其電壓值且產生信號，再經由控制器計算受壓之處相對坐標位置，此便是ITO觸摸屏的使用。

那么如何在這種ITO薄膜上進行加工刻線呢？傳統的ITO刻線采用的是化學試劑刻蝕，這種方法逐漸被淘汰，主要是其廢品率高，成本高。慢慢開始偏向于成本低、無污染、易操作、良品率高的激光刻蝕技術。

激光刻蝕的原理是通過調節高能激光束的焦點位置，使直接作用于ITO薄膜層，使得ITO層瞬間氣化，從而達到蝕刻的效果，同時由于激光能量的可調性質，這就使得在加工過程中不會對底部的襯底材料造成影響。這種方式相比較于化學試劑刻蝕體積更加小巧、易操作、成本低、良品率高。

通過電腦軟件控制，導入繪制好的ITO線路層的圖形即繪制激光蝕刻圖檔，上料后，調整好參數，即可對其進行加工，并對其進行檢測，保存好設置的參數，即可進行批量加工，同批次的產品無需再次調整參數既可實現批量的生產，大大提高的工作效率和良品率。

隨著技術的發展，在觸摸屏ITO行業中的精度要求越來越高，集成化也越來越高端，傳統的刻線方式已漸漸無法滿足要求，而新型的激光刻蝕方式已逐漸成為主流，其精度在工業應用中已能達到15μm， ITO激光刻蝕機已成為行業中的主力軍。